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    化合物半導(dǎo)體技術(shù)論壇登場 打造次世代通訊願景
    [作者 王明德]   2017年08月17日 星期四 瀏覽人次: [12320]


    預(yù)計(jì)2020年,市場將出現(xiàn)商業(yè)化應(yīng)用,高速傳輸對行動設(shè)備帶來嚴(yán)峻挑戰(zhàn),新世代的行動設(shè)備需要滿足更高的溫度、功率、電壓、效能與抗輻射需求,就目前技術(shù)來看,具備寬能帶、高飽和速度、高導(dǎo)熱性和高擊穿電場強(qiáng)度等特色的化合物半導(dǎo)體碳化矽 (SiC)、氮化鎵 (GaN) 無疑是市場上高溫、高頻及高功率元件材料的最佳解答,根據(jù)Yole Development的研究指出,2013年至 2022年,SiC功率半導(dǎo)體市場年均複合將達(dá) 38%,而 2016 年至 2020 年 GaN 射頻元件市場複合年增長率將達(dá)到4%,因此,如何積極因應(yīng)此一趨勢,善用本身優(yōu)勢布局市場,將是臺灣半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)這幾年的重要課題。


    持續(xù)精進(jìn)的化合物半導(dǎo)體技術(shù)

    絡(luò)達(dá)科技技術(shù)長林珩之博士就指出,與過去的通訊標(biāo)準(zhǔn)相較,5G在大幅強(qiáng)化傳輸速度、容量的同時(shí),功耗不至於同步提升,為達(dá)成此一目標(biāo),通訊設(shè)備的內(nèi)部設(shè)計(jì)也必須進(jìn)化,在傳統(tǒng)的蜂巢式通訊網(wǎng)路中,功率放大器(PA)往往是設(shè)備中功耗最大的元件,因此要解決此一問題,必須由PA著手。



    圖一 : 5G的標(biāo)準(zhǔn)制定已積極展開,新世代的行動設(shè)備需要滿足更高的溫度、功率、電壓、效能與抗輻射需求。(Source: Microwave Journal)
    圖一 : 5G的標(biāo)準(zhǔn)制定已積極展開,新世代的行動設(shè)備需要滿足更高的溫度、功率、電壓、效能與抗輻射需求。(Source: Microwave Journal)

    而要解決5G PA的功耗問題,林珩之博士表示除了從電路優(yōu)化設(shè)計(jì)著手,還必須將網(wǎng)路系統(tǒng)、數(shù)據(jù)晶片、PA架構(gòu)、PA設(shè)備同時(shí)考慮進(jìn)去,至於在5G功率放大器的製程選擇,CMOS與GaAs/GaN誰會勝出?林珩之博士以方式指出,在Breakdown voltage、Power handling、Through wafer via、Substrate loss等部分,GaAs/GaN具有優(yōu)勢,至於在自行檢測能力、複雜偏壓電路設(shè)計(jì)、訊號處理能力、整合性、配置彈性、低供電電壓能力方面,則是CMOS勝出,因此他認(rèn)為在5G乃至於6G與毫米波的基地臺設(shè)計(jì),由於效能是主要考量,GaAa/GaN仍會繼續(xù)存在,而以成本考量為主的物聯(lián)網(wǎng)設(shè)備,具低耗電與低價(jià)設(shè)備特色的CMOS,將比GaAa/GaN更有機(jī)會,手持式裝置部分,小於6GHz的設(shè)備,仍會採用GaAs/GaN或是CMOS+GaAs的複合式架構(gòu),至於毫米波市場,CMOS有可能全拿。


    聯(lián)鈞光電竹科分公司總經(jīng)理林昆泉博士,則針對GaN的磊晶晶圓製程提出相關(guān)看法,他指出在高耐熱性、高擊穿電壓、高電子飽和度與高電流密度的電子產(chǎn)品設(shè)計(jì)需求中,GaN製成的半導(dǎo)體可在高頻運(yùn)作下,提供高功率輸出,因此在新一代的應(yīng)用如車用電子、電力管理系統(tǒng)、工業(yè)照明、攜帶式電子裝置、通訊設(shè)備與消費(fèi)性電子產(chǎn)品中,會有相當(dāng)高的發(fā)展?jié)摿Α?/span>



    圖二 : 對於大晶片尺寸的功率器件來說,每片晶片只有不到千個(gè)芯片,因此需要用創(chuàng)新的技術(shù)來將的磊晶晶圓的顆粒。(Source: CARDIFF)
    圖二 : 對於大晶片尺寸的功率器件來說,每片晶片只有不到千個(gè)芯片,因此需要用創(chuàng)新的技術(shù)來將的磊晶晶圓的顆粒。(Source: CARDIFF)

    林昆泉表示矽功率元件上的GaN未來將採用矽製程,在6吋磊晶矽晶圓片的每片晶片上,都含有上萬顆的LED晶片,一般業(yè)界並不會不關(guān)心其顆粒數(shù),但對於大晶片尺寸的功率器件來說,每片晶片只有不到千個(gè)芯片,而產(chǎn)量與晶粒數(shù)量有關(guān),在這部分就會需要用創(chuàng)新的技術(shù)來將的磊晶晶圓的顆粒。


    林昆泉指出,目前MOCVD設(shè)備的長晶,大多是採人工方式,以鑷子放置,這種方式會導(dǎo)致顆粒大量增加至500顆以上,此一數(shù)量客戶通常不會接受,另一種則是以機(jī)器手臂取代人工,機(jī)器手臂可將顆粒數(shù)大幅降低至100顆以下,因此目前的主要做法會是從機(jī)器手臂著手,而聯(lián)鈞光電的目標(biāo)則是將其降至20顆以下,以符合市場需求,為此在聯(lián)鈞光電要求下,晶圓設(shè)備商Aixtron在2015年設(shè)計(jì)全球第一部出可維持?jǐn)z氏600度、以卡匣對卡匣,不碰觸晶圓表面的磊晶設(shè)備,成功達(dá)到目標(biāo)。


    從模組到封測 新世代通訊架構(gòu)現(xiàn)身

    穩(wěn)懋半導(dǎo)體技術(shù)處處長王文凱博士,則針對GaAs在毫米波的前端模組解決方案提出看法,他指出GaAs pHEMT製程已被業(yè)界長期應(yīng)用於無線通訊,例如點(diǎn)對點(diǎn)的射頻傳輸與VSAT,目前穩(wěn)懋半導(dǎo)體的pHEMT和PIN二極管主要技術(shù)平臺,在效能與電路方面已有解決方案,他指出近年來GaAs技術(shù)的快速演進(jìn),讓晶圓封裝與通訊設(shè)備上的多數(shù)功能開始整合,此外,pHEMT和PIN二極管整合為PINHEMT的技術(shù),在毫米波通訊系統(tǒng)前端模組也會有巨大潛力。


    王文凱指出,目前已可用0.1um pHEMT執(zhí)行E波段和D波段放大器,同時(shí)Ka-Band Doherty放大器和低噪放大器已透過o.15um增強(qiáng)模式完成,而Ka波段的switch則可由GaAs PIN二極管製程示範(fàn),這說明了GaAs pHEMT是毫米波領(lǐng)域相當(dāng)適用的驗(yàn)證解決方案。


    在方裝技術(shù)方面,日月光技術(shù)處處長林弘毅博士表示,現(xiàn)在整體產(chǎn)業(yè)的問題在於摩爾定律逐漸趨緩,但市場上行動設(shè)備通訊需求與雲(yún)端運(yùn)算概念所帶來的數(shù)據(jù)傳輸量卻越來越龐大,目前半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中任何一種晶片技術(shù)的提升速度,因此異系統(tǒng)整合就成為頻寬問題的解決之道,現(xiàn)在客戶對委外封測廠商的要求除了數(shù)位CMOS製程外,還必須提供射頻與光學(xué)等技術(shù)的解決方案。


    現(xiàn)在行動設(shè)備的射頻模組與資料中心的矽光子模組,是目前雲(yún)端運(yùn)算平臺的關(guān)鍵元件,這兩類元件都需要有多元材料包括化合物半導(dǎo)體、矽和被動元件或特殊晶體等異材質(zhì)的高速連通晶片,其中阻抗匹配和低插入損耗將是關(guān)鍵性能指標(biāo),在演講過程中,林弘毅展示的射頻模組和矽光子模組的新封裝平臺,同時(shí)具備了小型化、高效能與功能整合等特色,提供臺灣產(chǎn)業(yè)最佳解決方案。


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